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Résumé: Ce travail de physique appliquée décrit le développement et la mise en place de mesures photométriques pour la caractérisation de matériaux optiques comme des substrats, des dépôts monocouches et multicouches. En raison des propriétés d´absorption de l´air dans le domaine de longueurs d´onde inférieures à 190 nm, les mesures doivent être réalisées soit sous vide, soit sous gaz protecteur, ce qui représente une difficulté technique supplémentaire. Les données photométriques de différents substrats (quartz, MgF2, CaF2, BaF2, LiF et saphir Al2O3), comme la réflexion ou la transmission, ont été mesurées dans le domaine de longueurs d´onde 115 - 230 nm avec une précision de 0,1%. Un laser F2 a aussi été utilisé non seulement comme outil de nettoyage in-situ afin de retirer la contamination en surface des échantillons (hydrocarbones), mais aussi comme mesure de résolutions temporelles. Ainsi, les procédés de nettoyage peuvent être suivis avec une précision correspondant à une impulsion et un modèle théorique obéissant à leurs progressions exponentielles a été développé.
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