Titel: Spektralphotometrie und zeitaufgelöste Laserphotometrie für den VUV-Spektralbereich

Autor: Jork Leiterer, Friedrich-Schiller-Universität (FSU) Jena und Fraunhofer-Institut für angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) Jena

Zusammenfassung: Diese Arbeit der Technischen Physik beschreibt Entwicklung und Aufbau photometrischer Meßtechnik zur möglichst genauen Charakterisierung optischer Materialien (Substrate, Einzelschichten und Schichtsysteme). Aufgrund der Absorptionseigenschaften von Luft unterhalb einer Wellenlänge von 190 nm stellt der Meßaufbau im Vakuum oder Schutzgas eine Herausforderung an Meßtechnik und Meßverfahren. Anhand der ausgewählten Substrate Quarzglas, MgF2, CaF2, BaF2, LiF und Saphir (Al2O3) wurde die präzise Bestimmung photometrischer Daten wie Reflexion und Transmission über einen Spektralbereich von 115 bis 215 nm mit einem Fehler kleiner 0,1 % gezeigt. Der zur notwendigen in-situ-Entfernung von probenspezifischen Oberflächenbelägen (Kohlenwasserstoffe) verwendete F2-Laser wurde nicht nur als Reinigungswerkzeug benutzt, sondern zusätzlich in ein neues zeitaufgelöstes Meßverfahren integriert. Dadurch werden pulsgenaue Reinigungsverläufe sichtbar, deren exponentielle Entwicklungen gut dem erstellten theoretischen Modell folgen.